 Produtos> Compoñente de cerámica de enxeñaría> Cerámica de nitruro de silicio> 0,3 mm 0,635 mm de espesor Si3N4 substrato cerámico de nitruro de silicio

0,3 mm 0,635 mm de espesor Si3N4 substrato cerámico de nitruro de silicio

0,3 mm 0,635 mm de espesor Si3N4 substrato cerámico de nitruro de silicio

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Capacidade de subministración e información adicional

Additional Information

Empaquetado: Cartón de exportación

Produtividade: 100000 pieces/month

Transporte: Ocean,Land,Air

Lugar de orixe: China

Capacidade de subministración: 50000 pieces/month

Certificado: RoHS

Código HS: 8547100000

Porto: Shenzhen,HongKong

Tipo de pagamento: T/T,Paypal,Money Gram,Western Union

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Atributos do produto

Modelo núm.: Standard or custom-made

Marca: Cerámica Jinghui

Lugar De Orixe: China

Especie: Pezas cerámicas

Aplicación: Cerámica industrial

Material: Cerámica de alúmina

Servizo De Procesamento: Dobrado, Corte, Moldaxe

Product Name: Silicon Nitride Substrate

Material: High Purity Silicon Nitride

Shaping Method: Tape Casting

Specification: According To Customers' Specification

Precision Process: Fine Grinding, Precision Cutting

Features: High Thermal Conductivity, High Thermal Shock

Application: For Igbt Modules

Envases e entrega

Unidades de venda:	Piece/Pieces
Tipo de paquete:	Cartón de exportación

Descrición do produto

0,3 mm 0,635 mm de espesor Si3N4 substrato cerámico de nitruro de silicio As principais características do substrato cerámico Si3N4 1. Alta condutividade térmica (ata 70 W/mk), 3 veces a do substrato cerámico de alúmina; 2. O coeficiente de expansión térmica (3,1×10-6/℃) coincide co material de silicio semicondutor (3,5-4,0×10-6/℃); 3. A resistencia á flexión é maior que a do substrato de alúmina, que é o dobre que o do substrato de alúmina; 4. Excelente rendemento...

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Category: Cerámica de nitruro de silicio

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